受賞Award
YANG Dongxunさんの論文がAppl. Phys. Lett.誌にオンライン掲載され、Editor’s Pickに選ばれました
2023年1月24日
物質科学ユニット2期生のYANG Dongxunさんの論文が2023年1月24日に米国科学雑誌Appl. Phys. Lett.誌にオンライン掲載され、Editor's Pickに選ばれました。(D. Yang, F. Murakami, S. Genchi, H. Tanaka, and M. Tonouchi, Appl. Phys. Lett., 122, 041601 (2023))
この論文は、カデットプログラムの必修科目である研究室ローテーションで、YANGさんが産業科学研究所の田中研究室へ3ヶ月滞在して行った共同研究の成果が形となったものです。
論文のタイトルは、「Noncontact evaluation of the interface potential in VO2/Si heterojunctions across metal–insulator phase transition」